一、產(chǎn)品簡介
真空鍍膜（包括磁控濺射、蒸發(fā)鍍膜、離子鍍等工藝）過程中，鍍膜機的靶材、坩堝、真空室壁會因高能粒子轟擊和電熱轉(zhuǎn)換產(chǎn)生大量熱量，若冷卻不及時，溫度超過 150℃會導(dǎo)致靶材濺射速率不穩(wěn)定（偏差≥5%）、膜層附著力下降（剝離強度≤3N/cm），甚至引發(fā)靶材變形（翹曲量≥0.2mm）、真空密封失效（泄漏率≥1×10??Pa?L/s），廢品率高達(dá) 8% - 12%。
真空鍍膜冷卻用工業(yè)冷水機作為散熱設(shè)備，采用低導(dǎo)熱率工質(zhì)循環(huán)系統(tǒng)，可實現(xiàn) 5 - 35℃寬域溫度調(diào)節(jié)，溫差穩(wěn)定在 ±0.5℃以內(nèi)，散熱功率覆蓋 5 - 2000kW，適配 Φ300mm 至 Φ1500mm 的真空鍍膜機。通過精準(zhǔn)控制靶材背部與真空室的溫度，使靶材工作溫度穩(wěn)定在 80±5℃，膜層厚度均勻性偏差≤2%，附著力提升至≥5N/cm.
二、應(yīng)用場景
光學(xué)薄膜鍍膜：針對 Φ1200mm 光學(xué)鏡片的增透膜（SiO?）濺射鍍膜，控制靶材溫度 70±0.5℃，使膜層厚度均勻性（Φ100mm 范圍內(nèi)）≤1%，可見光透過率提升至 99.5% 以上，滿足激光設(shè)備對鏡片的高精度要求。
裝飾性鍍膜：為手機外殼的 Ni-Cr 合金裝飾膜蒸發(fā)鍍膜提供冷卻，控制坩堝溫度 80±1℃，使膜層色澤一致性（ΔE）≤1，鹽霧測試（48 小時）無銹蝕，良品率從 85% 提升至 98%。
功能性鍍膜：適配太陽能電池板的 ITO 導(dǎo)電膜磁控濺射，通過 15±0.5℃精準(zhǔn)冷卻，使膜層方塊電阻偏差≤5Ω/□，可見光透過率≥85%，滿足光伏組件的發(fā)電效率要求（轉(zhuǎn)換效率提升 0.5%）。
硬質(zhì)涂層鍍膜：針對刀具的 TiN 硬質(zhì)涂層（厚度 3 - 5μm）離子鍍，控制真空室壁溫度 50±1℃，使涂層結(jié)合力（劃痕測試）≥80N，刀具使用壽命延長 2 - 3 倍，適用于高速切削加工場景。
