超高真空系統(tǒng)用于對(duì)超薄磁膜和多層電子束蒸發(fā)的薄膜沉積進(jìn)行現(xiàn)場實(shí)時(shí)磁光克爾效應(yīng)研究。

• 本底真空范圍 10^-10mbar, 150°C烘烤
• 垂直于樣品排列的磁極
• 磁極間場域 > 0.17 特斯拉
• 4 軸超高真空樣品操縱器，用于操作樣品夾具
• 樣品加熱至800°C，以及使用液氮LN冷卻
• MOKE室光學(xué)系統(tǒng)（調(diào)節(jié)器、極化器、光電探測器、激光）
• 帶設(shè)備的整個(gè)腔室安裝在定位臺(tái)上
• 真空手提箱，便于運(yùn)輸

系統(tǒng)特點(diǎn)：

• 沉積過程中的真空：~1x10-8 mbar
• 沉積技術(shù)：電子束蒸發(fā)（EB）
• 表征技術(shù)：MOKE
• 厚度測量：使用石英晶體顯示器
• 場域： ~0.3T
• 電源： 400W
• 模塊化設(shè)計(jì)允許連接沉積模塊（MBE、PLD、磁控濺射）或分析模塊（XPS、UPS、ARPES IR等）