沉積用等離子體

大氣壓等離子體納米涂布及沉積
無需真空環(huán)境，在大氣壓下進行涂布、沉積。

特點
1. 在大氣壓下，達到真空等離子體的品質(zhì)。
– In-line process
– 涂布速度快（~ 100mm/s）
– 高均勻涂膜
– 涂膜厚度可調(diào)
應用范圍
1. 研究/開發(fā)/生產(chǎn)試產(chǎn)品
– NANO / micro imprint lithography
– Ink Jet printing ( LCD, OLED, LED, Solar cell )
– MEMS
– Optic device
– Fuel cell / solar cell
– TFT
– Bio MEMS