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蝕刻用等離子體 中大型PLC

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地

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更新時間:2022-12-01 09:34:35瀏覽次數(shù):1029次

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蝕刻 等離子體 產(chǎn)品描述:plasma etching ......

蝕刻用等離子體

在大氣壓下,能夠進(jìn)行有機膜、無機膜的蝕刻工序。
顯示器、手機、半導(dǎo)體、玻璃、薄膜、聚合物等
目前為止,有機膜、無機膜的蝕刻工序只有在真空腔體內(nèi)才可進(jìn)行,但使用本產(chǎn)品可在大氣壓中進(jìn)行蝕刻。.
該產(chǎn)品采用特殊設(shè)計的等離子頭和放電系統(tǒng),在大氣壓中實現(xiàn)等離子放電,可有效去除有機膜、無機膜(蝕刻、去垢),來降低生產(chǎn)時出現(xiàn)的不良率。.
[ 特殊工序用etching/ashing/discum]

特點
1. 在大氣壓下,進(jìn)行蝕刻、去垢、去除PR膜殘留
– 模組安裝時無需更改生產(chǎn)線,有效提升產(chǎn)能。
應(yīng)用范圍
1. 應(yīng)用范圍
– Over deposition metal etching
– A-Si / Poly-Si / PI / PR ashing
– Si / SiO2 selective etching

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