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更新時(shí)間：2021-03-01 10:11:48瀏覽次數(shù)：187次
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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
PECVD：是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上可達(dá)8路MFC和多樣化的氣體選擇；
均勻性：≤±3%；
預(yù)抽真空室和自動(dòng)晶片裝卸門；
全自動(dòng)控制；
應(yīng)用領(lǐng)域：
等離子誘導(dǎo)表面改性；
等離子清洗；
等離子聚合；
SiO2, Si3N4, DLC及其它薄膜；
碳納米管(CNT)的選擇性生長(zhǎng)。
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