多功能鍍膜系統(tǒng)
這款來自美國的多功能鍍膜系統(tǒng)滿足研究所和研發(fā)部門對真空薄膜沉積的性能要求，占用空間小，具有超高的性價比，可以向客戶提供質(zhì)的服務(wù)。

特點
小容量，快速重復工作流程；
活性沉積區(qū)域大為200nm（8英寸）直徑；
適應(yīng)多種襯底；
可配備多個濺射源（多至4個）；
連續(xù)沉積模式或聯(lián)合沉積模式；
不同工作氣體控制；
共焦陰極分布；
50mm,75mm, 或100mm磁控濺射源；
內(nèi)置陰極角傾斜；
陰極擋板；
直流,脈沖，高頻（HG或MF）電源；
襯底，加熱，冷卻，或者RF/DC偏壓；
可添加預(yù)抽室。