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當(dāng)前位置:科睿設(shè)備有限公司>>光刻系統(tǒng)>> MDA-80SA光刻機(jī)
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產(chǎn)品型號(hào)
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地
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更新時(shí)間:2023-02-26 07:20:42瀏覽次數(shù):303次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 儀表網(wǎng)MIDAS為的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,多年來(lái)致力于掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn),并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域;該公司是目前早將光刻機(jī)商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力;并且其設(shè)備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以優(yōu)秀的技術(shù)、的工藝和良好的服務(wù),贏得了用戶的青睞。
型號(hào):MDA-80SA
廠家鏈接:.cn/
易于操作的用戶界面,PLC操作與PC控制,圖像抓取和數(shù)據(jù)日志,100多個(gè)程序配方,電動(dòng)操縱桿控制,電動(dòng)變焦顯微鏡和樣品臺(tái)
?操縱桿控制,半自動(dòng)
?掩模版尺寸高達(dá)9英寸
?基板尺寸6~8英寸
?均勻光束尺寸10.25*10.25英寸
?紫外線光源:紫外線燈,2 kW
?光束波長(zhǎng)350~450 nm
?光束均勻性<±5%
?365 nm強(qiáng)度~25 mW/?
?定位方法:操縱桿控制,半自動(dòng)
?對(duì)準(zhǔn)精度1 um
?操作模式:軟、硬、真空接觸和接近
?工藝分辨率:1 um@1 um PR厚度,真空接觸
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