批量晶圓等離子體清洗機(jī)采用pvatepla等離子體清洗和等離子體去膠技術(shù),其中GIGAbatch 310M是最小的批量晶圓等離子體處理機(jī),非常適合實(shí)驗(yàn)室和大學(xué)使用。
批量晶圓等離子體清洗機(jī)特點(diǎn)
桌面版的基本結(jié)構(gòu)；
為第二個(gè)氣體管道提供空間
腔室可容納多達(dá)25個(gè)直徑為150 mm的晶圓，
可以作為石英舟中的一批晶圓，也可以作為帶有特殊加載裝置的單一基板
各種配件可供個(gè)人配置
等離子體發(fā)射功率高達(dá)600W
批量晶圓等離子體清洗機(jī)原理
等離子體處理系統(tǒng)都遵循相同的等離子體產(chǎn)生原理：直接耦合真空室中大氣側(cè)的高頻激勵(lì)。進(jìn)氣口位于腔室的一側(cè)，真空吸盤位于腔室的另一側(cè)。這種腔室?guī)缀谓Y(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了特別一致的工藝結(jié)果。
批量晶圓等離子體清洗機(jī)使用一代處理器、基于Linux的平臺(tái)作為操作系統(tǒng)，以及圖形用戶界面（GUI）。因此，可以手動(dòng)和全自動(dòng)控制工藝，并通過(guò)MFC控制工藝氣體。在這個(gè)過(guò)程中，所有參數(shù)都會(huì)寫(xiě)入配方并存儲(chǔ)在數(shù)據(jù)庫(kù)中。同時(shí)，壓力、氣體流量、輸出等的當(dāng)前值顯示在顯示屏上，如果偏離目標(biāo)值，則會(huì)觸發(fā)相應(yīng)的警報(bào)。