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伯東 KRI 考夫曼射頻離子源在 PCB 鉆頭銑刀上的應用

來源:上海伯東企業(yè)有限公司   2020年11月13日 13:34  

電子工業(yè)的飛速發(fā)展對線路板制造業(yè)的要求越來越高, 線路板層數(shù)越來越高, 孔密越來越大并向微孔化不斷發(fā)展, 某國內(nèi)制造商為了銑刀進行銑邊及成型加工時, 減少產(chǎn)品的披鋒、毛刺及銑刀斷刀, 采用伯東 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP380輔助鉆頭銑刀上鍍膜.

 

該制造商的真空離子鍍膜技術, 利用 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP380 轟擊靶材形成離子, 并使離子在強磁場的驅動下吸附于鉆頭或鑼刀上形成鍍層, 制備出鍍膜鉆頭及鍍膜銑刀.

用于濺射的 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP380 技術參數(shù):

射頻離子源型號

RFICP380

Discharge 陽極

射頻 RFICP

離子束流

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

30 cm Φ

離子束

聚焦

流量

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

39 cm

直徑

59 cm

中和器

LFN 2000

 

推薦理由:

聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染

 

運行結果:

  1. 結果表面, 采用鍍膜鉆頭, 可以明顯增加鉆孔孔限, 減少披鋒, 節(jié)約成本;
  2. 采用鍍膜銑刀進行銑邊及成型加工時, 有利于減少產(chǎn)品的披鋒、毛刺及銑刀斷刀, 提高生產(chǎn)效率及節(jié)約成本

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口品牌的代理商.

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