化鎳浸金(ENIG)作為PCB表面處理之一被廣泛應用,化鎳浸金是指在焊盤銅表面上化學鍍鎳,然后在鎳層表面置換上一層金層的表面處理工藝,其具有良好的平整性、焊接性、接觸電阻小、存儲時間長等特點,但是ENIG在實際裝聯(lián)過程中存在多種焊接不良現(xiàn)象,其中金層不溶、縮錫就是常見問題之一。
金層不溶、縮錫產生原因分析:
化鎳浸金工藝表面鍍金,具有優(yōu)異的可焊性及抗氧化性,一般情況下不會出現(xiàn)潤濕不良問題,但實際裝聯(lián)時還是會出現(xiàn)金層不溶,縮錫問題。金層不溶、縮錫主要產生的原因來自兩個方向,一方面來自金層表面污染,另一方面來自金層本身問題。
為了進一步闡述結合實際案例,通過光學顯微鏡、X射線測厚儀、SEM+EDS、金相切片及AES(俄歇電子能譜)等分析手段來進行論證。
1、金層污染
某消費類電子產品SMT回流后出現(xiàn)一定比例的金層不溶、縮錫,失效表現(xiàn)為焊料全部吸附到器件可焊端,焊點的接觸角大于90度,用烙鐵手工執(zhí)錫無法上錫。
①外觀檢查
使用電子光學顯微鏡對失效部位進行觀察,金層表面并未發(fā)現(xiàn)可見污染物,具體觀測結果如下:
②ENIG鍍層厚度檢測
使用X射線測厚儀對金層不溶焊盤鍍層厚度進行測量,數(shù)據(jù)見下表,從表數(shù)據(jù)來看,Au與Ni厚度均滿足規(guī)定要求。
③ENIG鍍層結構及成分分析
1)剝金前檢測
對縮錫焊盤表面進行SEM+EDS檢測,發(fā)現(xiàn)不上錫的Au層表面含有較高的C、O元素含量,會對焊接造成較大影響。
1)剝金后檢測
對縮錫部剝金后觀察,P含量符合規(guī)范要求,Ni面結晶正常,未發(fā)現(xiàn)Ni面腐蝕現(xiàn)象,后對其做切片確認,也未發(fā)現(xiàn)Ni層存在刺入腐蝕現(xiàn)象,形貌良好無異常。
1>Ni層形貌及P含量
2>Ni層切片形貌
④縮錫位清洗后分析
縮錫失效處C、O含量偏高,初步分析與有機物污染有關,對其用酒精進行清洗,發(fā)現(xiàn)C、O含量明顯降低。
⑤實驗驗證
對金層不溶、縮錫板焊點用酒精清洗后做漂錫實驗,漂錫后所有的之前縮錫焊點都上錫飽滿,滿足IPC-J-STD-003之判定標準。
⑥小結
縮錫焊盤主要是因為ENIG鍍層Au面受到有機污染,金面上存有機污染會造成金面表面自由能降低,這樣會使?jié)櫇裥韵陆?,終造成金層不溶、縮錫產生。由于EDS只能確定污染元素,但不能定義具體的有機污染物,若要確認,需使用FTIR(紅外線光譜分儀)、TOF-SIMS(飛行時間二次離子質譜)等方法來確定。
為了避免金層有機污染物問題再發(fā),建議如下:
1)特別監(jiān)控ENIG板從化金到器件上件的各個工序,確保金面不受外界異常元素污染。
2)注意ENIG板的存儲環(huán)境,避免在酸、氯、硫的環(huán)境下存放。
3)錫的潤濕性與板面清潔有很大關系,可在上件前對板做必要的清潔會對焊接有所幫助。
2、金層本身問題
通過金層污染分析方法后未能發(fā)現(xiàn)有機污染或腐蝕特征時,需要將目光聚焦到金層本身是否存在異常,這是一種非典型的分析思路,借助以下案例來說明。
①Au/Ni互溶
某電子產品出現(xiàn)金層不溶、縮錫問題,使用SEM+EDS分析后數(shù)據(jù)結果顯示,焊盤縮錫區(qū)域的化學成分無明顯異常,未發(fā)現(xiàn)外來元素。剝離金層后Ni面結晶正常,P含量滿足規(guī)范,無Ni面腐蝕現(xiàn)象。后對縮錫部焊盤清洗后焊料仍無法潤濕。
②互溶的原因
Au/Ni互溶其本質就是Ni擴散到了Au層,產生了Au/Ni互溶產物,表面物化性能發(fā)生變化,表面能、反應驅動力均改變,難以溶于焊料,終的結果就是金層不溶,縮錫。
Ni擴散的主要來源:
1) 鍍金工藝控制不當,金層中夾雜鎳離子。
2) 鎳層原子擴散,由于金原子尺寸遠大于鎳原子,提供了鎳擴散的路徑,而具體的擴散速度與擴散時間、溫度相關。
3) 金層厚度過薄,未達到IPC規(guī)范要求,這樣會對Ni擴散提供了方便。
③小結
金層本身存在異常并非常見,但在我們做失效分析時需要考慮到,以免被固有的思維所約束,找不到打開問題的鑰匙。
為了防止問題出現(xiàn),改善建議如下:
1) 鍍金工藝的控制,避免金層中夾雜鎳離子。
2) 嚴格管控好金層厚度要求,要符合IPC的規(guī)定,要把金厚的檢查做為重點檢查項目進行確認。
3) 避免不必要的烘烤動作,因為過多,長時間的烘烤固然可以降低PCB本身的含水率,降低爆板、分層的風險,但其弊端卻被忽視,加速鎳的擴散、氧化,甚至會出現(xiàn)PCB變形的風險等,會對板級裝聯(lián)造成嚴重影響。
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