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痕量低濃度氮氧化物分析儀-多種氣體檢測儀

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更新時間：2019-08-20 11:16:51瀏覽次數(shù)：514次

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河南英特電氣設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡介

痕量低濃度氮氧化物分析儀是用于分析氣體組成成分的儀表，屬于流程分析儀表中的一種,是化學(xué)參數(shù)測量儀表，在很多工業(yè)生產(chǎn)過程中，氣體分析儀表的地位與壓力儀表、流量儀表等物理參數(shù)測量儀表是不相上下的，能起到控制生產(chǎn)環(huán)境、減少安全事故等重要作用;除通常用來分析氫氣、氨氣、二氧化碳、二氧化硫和低濃度可燃性氣體含量。

詳細(xì)介紹

痕量低濃度氮氧化物分析儀其核心部分是一個激光檢測裝置，其中的氦氖激光器可以發(fā)射一種安全的低功率單波激光到一個氣體測試腔內(nèi)。由于激光能量微弱，裝置內(nèi)部通過檢測腔兩端的反射鏡不斷進(jìn)行反射，將能量放大1000倍左右。光子與氣體分子發(fā)生碰撞后發(fā)生散射，產(chǎn)生一種不同于激光頻譜的光譜，而且不同分子散射出來的光譜是特定不相同的，這就是我們所稱的“拉曼散射光譜”。檢測腔內(nèi)壁裝有8個光學(xué)濾波器和光電傳感器，用來吸收和檢測不同分子的特定光譜頻率，從而得到8種不同待測氣體成分含量。根據(jù)這種原理，每種待測氣體的含量都是通過直接測量得到的，不需要任何的導(dǎo)算；RLGA的檢測精度更高；反應(yīng)速度更快.

分析儀根據(jù)Lambert-Beer定律，并采用NDIR（非色散紅外）原理，可選擇性在波長2-9um范圍內(nèi)測量多種組分，例如：一氧化碳，二氧化碳，二氧化硫，甲烷，一氧化氮以及一些簡單碳?xì)浠衔铩?/span>

多應(yīng)用于存在化學(xué)反應(yīng)的生產(chǎn)過程，例如氨氣合成流程中，在使用溫度儀表和壓力儀表控制反應(yīng)環(huán)境以外，還需要使用氣體分析儀表來分析進(jìn)氣的化學(xué)成分，控制氫氣和氨氣之間的合理比例，這樣才能大限度的提高氨氣合成率，而獲得較高的生產(chǎn)效率。在鍋爐燃燒控制中也起到了非常重要的作用。

痕量低濃度氮氧化物分析儀

質(zhì)譜分析法是利用不同離子在電場或者磁場中運(yùn)動軌跡的不同，把離子按質(zhì)荷比分離而得到質(zhì)量圖譜，可以得到樣品的定性定量結(jié)果。質(zhì)譜儀按照常用的質(zhì)量分離器不同可分為掃描磁扇式磁場質(zhì)譜儀和四極質(zhì)譜儀，飛行時間質(zhì)譜儀等幾種類型。目前工業(yè)應(yīng)用上通常采用的是掃描磁扇式質(zhì)譜儀。四極質(zhì)譜儀的靈敏度高，適合實驗室或科學(xué)研究。掃描磁扇式的穩(wěn)定性和重復(fù)性較高，適合工業(yè)應(yīng)用。

不僅在一臺氣體分析儀器內(nèi)部具備一套化工工藝過程的同樣情況和條件，而且，有時在儀器前級的樣氣預(yù)處理部分（含取樣系統(tǒng)）也同樣是一套化工工藝過程。如遇到較復(fù)雜、較特殊的工藝技術(shù)條件的話，那么樣氣預(yù)處理系統(tǒng)所體現(xiàn)的化工過程還是非常復(fù)雜的，相當(dāng)于一個小化工廠的凈化處理工藝過程。由此可見，氣體分析的過程就是在了解并掌握整個化工過程系統(tǒng)條件的前提下，嚴(yán)格控制各種影響測定條件的因素，從而得到工藝及管理人員所需要的準(zhǔn)確數(shù)據(jù)。

在儀器應(yīng)用的過程中，影響因素種類較多且變化較復(fù)雜，而要想有效地控制這些影響因素及排除干擾測定的因素則困難比較大。例如微量氧的測定，不但要嚴(yán)格控制系統(tǒng)材質(zhì)和密封，而且系統(tǒng)的潔凈等諸多因素也必須逐一解決好，否則，氧成分分析不會得到準(zhǔn)確的測定結(jié)果。而對于氣體中微量水含量的測定，除了考慮以上提到的各種影響因素外，還必須考慮到樣氣中的水在管道內(nèi)的吸附平衡問題，而這一問題的妥善處理必須依靠反復(fù)試驗，了解其變化情況和規(guī)律，掌握其中的操作技術(shù)，以便得到準(zhǔn)確無誤的結(jié)果。

關(guān)鍵詞：氮氧化物分析儀光電傳感器儀表氣體分析儀質(zhì)譜儀