電子束蒸發(fā)源
   
    對于使用常用熱蒸發(fā)技術(shù)非常難蒸發(fā)的材料,電子束蒸發(fā)是一種有效的蒸發(fā)手段.通過高能電子束射向靶材來升高靶材溫度.相比于通常輻射或間接電阻加熱方式,使用這種方式來達到溫度沒有本質(zhì)的限制。
    我司提供的這款電子束蒸發(fā)源是由高質(zhì)量，*與高真空兼容材料構(gòu)成，并且可以烘烤至250℃。
 
 
 
 
應(yīng)用領(lǐng)域：
表面科學(xué)
金屬薄膜接觸腳
MBE摻雜應(yīng)甚至按照客戶需要提供更高功率的電子束蒸發(fā)源。
提供Flux電流監(jiān)控，監(jiān)控蒸鍍速率。
坩堝容量小，節(jié)約靶材，提供小0.21 mm3，大1000 mm3的坩堝。
在高真空中，可以烘烤至250℃。
自動化軟件控制；
手動/馬達驅(qū)動擋板；
占用腔體空間小
冷卻水流量小