概述DKF10-MH型 痕量級多組份氣體分析儀

     痕量級雜質(zhì)氣體比如烴類、H2O、CO、CO2、NOx、N2、H2S等會(huì)對高純氦、高純氫、高純氮、其他高純氣體以及烯烴類氣體的生產(chǎn)帶來危害，會(huì)損壞生產(chǎn)設(shè)備和影響生產(chǎn)質(zhì)量，甚至對使用這些氣體的裝備帶來致命威脅。杜克泰克公司與芬蘭干涉公司合作研發(fā)的DKF10-MH型痕量級多組份氣體分析儀專門專業(yè)監(jiān)測并分析ppm微量級、ppb超微量級雜質(zhì)氣體。

原理DKF10-MH型 痕量級多組份氣體分析儀

      DKF10-MH痕量級多組份氣體分析儀基于紅外光聲光譜技術(shù)，擁有脈沖紅外光源，通過窄帶光學(xué)濾波片，形成中紅外區(qū)10個(gè)光譜波段，用于氣體分析；超高靈敏度基于的擁有增強(qiáng)懸臂梁光學(xué)麥克風(fēng)技術(shù)，可通過10種光學(xué)窄帶濾波片實(shí)現(xiàn)，極窄的光學(xué)濾波可去除背景氣體的干擾；多個(gè)光譜區(qū)域可有利于小的交叉靈敏度。對采樣響應(yīng)結(jié)果按照改進(jìn)的經(jīng)典小二乘法進(jìn)行數(shù)據(jù)校準(zhǔn)。 

光聲光譜技術(shù)可實(shí)現(xiàn)短光路光程的高靈敏度測量，更進(jìn)一步提高了非線性補(bǔ)償技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)寬量程可達(dá)5級的線性動(dòng)態(tài)量程比。 

氣體：

• 烴類：CH4、C2H6、C2H2、C2H4等 

• 無機(jī)氣體： CO2、CO、N2O、SO2、NO、NO2, NH3、NF3、SF6、H2O等 

• 揮發(fā)性有機(jī)物VOCs：丙酮、乙醇、甲醇、苯、 甲苯、二、甲醛等 

• 氟利昂（CFCs）及 全氟化碳（PFCs）: CF4、 C2F6、R-134a、R13等 

• 腐蝕性氣體：HF、HCL、HCN等 

• 麻醉劑：*、*、*、安氟醚等；

• 其他氣體：N2、H2、O2、氯氣等（可選、擴(kuò)展探頭）； 

• 被測氣體可定制；