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K675X 三靶濺射鍍膜儀

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)K675X
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時(shí)間2018-04-06
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 所在地區(qū)江蘇
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量14
  • 人氣值305
產(chǎn)品標(biāo)簽

三靶濺射鍍膜儀 濺射鍍膜儀

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K675X濺射鍍膜儀可用于8英寸(200mm)晶圓鍍膜。主機(jī)系統(tǒng)具有雙齒轉(zhuǎn)動(dòng)樣品臺(tái),可進(jìn)行漸進(jìn)的橢圓形轉(zhuǎn)動(dòng),這樣使得濺射沉積更均勻。
三靶濺射鍍膜儀 產(chǎn)品詳情
EMITECH K675X 三靶濺射鍍膜儀   ——高分辨率,大樣品鍍鉻或其它金屬  K675X濺射鍍膜系統(tǒng)裝有磁電管靶可增加濺射效率,它使用低電壓,可得到薄而精細(xì)的涂層。  在K675X中放置了三個(gè)靶面,可鍍非常大直徑的樣品,加上旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),保證了均勻沉積。這種方式不需要特殊的靶面,而用標(biāo)準(zhǔn)標(biāo)即可。  多靶系統(tǒng)在半導(dǎo)體晶圓工業(yè)尤為適用。它使用渦輪分子泵,前級(jí)為旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵。集成的儀器面板及即插即用的電子學(xué)zui大的“up-time”,以及用戶友好設(shè)計(jì),保證了多學(xué)科領(lǐng)域的應(yīng)用。  濺射參數(shù)可預(yù)設(shè),包括氣體放氣電磁閥。獨(dú)立的真空泵系統(tǒng)由儀器自動(dòng)控制。它可用金作為濺射靶材,在需要預(yù)清洗或去除氧化層時(shí),也可選用其它靶材,如鉻靶。  閘門作為標(biāo)準(zhǔn)配置,這樣在維持真空時(shí)即可進(jìn)行濺射清潔和濺射循環(huán)。  儀器特點(diǎn)   ● 配置三個(gè)靶面  ● 渦輪分子泵抽氣系統(tǒng)  ● 全自動(dòng)控制  ● Peltier冷卻濺射頭  ● 精細(xì)涂層(0.5nm Cr粒子)  ● 可傾斜的特殊旋轉(zhuǎn)臺(tái)作為標(biāo)準(zhǔn)配置  ● 薄膜沉積(典型為5nm)  ● 直徑為300mm腔室  ● 可選雙濺射頭  儀器優(yōu)點(diǎn)   ● 可對(duì)大樣品進(jìn)行鍍膜,如:8英寸晶圓  ● 可濺射易氧化金屬的精細(xì)顆粒,如:鉻或銥  ● 易操作  ● 無需水冷卻  ● 超高分辨率,可復(fù)制涂層  ● 適應(yīng)各種樣品  ● 重復(fù)膜厚沉積  ● 樣品容易裝載和卸載,包括8英寸晶圓  ● 不需要打開真空即可進(jìn)行兩種金屬順序涂層  技術(shù)規(guī)格  儀器尺寸:450mm W x 500mm D x 300mm H (總高 630mm)  工作腔室:硼硅酸鹽玻璃 300mm Dia. x 20mm H  安全鐘罩:聚碳酸酯  重量:42公斤  靶:54 mm 直徑 x 0.3mm 厚x 3(鉻作為標(biāo)配靶材)  旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái):可調(diào)的6 至 8 英寸晶圓尺寸,到靶距離60mm  真空范圍:ATM-1x10-5 mbar  沉積電流范圍:0-450mA  沉積速率:0-15nm/分  濺射定時(shí):0-4 分鐘  電源:230 伏 50Hz(包括泵zui大電流為8安培)        115 伏 60Hz(包括泵zui大電流為16安培)  Services   Argon - Nominal 10 psi;             Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas)  真空泵:No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr 
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