細(xì)胞低氧工作站
Ox-800Mini細(xì)胞低氧⼯作站是⼀款⽤于維持低氧環(huán)境的細(xì)胞操作工作站，體積緊湊節(jié)省空間，適合各種細(xì)胞低氧培養(yǎng)。
Ox-800Mini細(xì)胞低氧⼯作站⼀體化設(shè)計(jì)，只需連接氮⽓鋼瓶和氧氣鋼瓶即可使用，可精確控制低氧艙內(nèi)的氧氣濃度和⼆氧化碳濃度。低氧工作站提供溫度和濕度控制功能，溫度穩(wěn)定性為0.1℃，為細(xì)胞培養(yǎng)提供穩(wěn)定的生長(zhǎng)環(huán)境。
·特點(diǎn)及參數(shù)
監(jiān)測(cè)參數(shù)： 溫度、濕度、氧⽓ 、⼆氧化碳監(jiān)測(cè)功能所有的數(shù)據(jù)均可保存⾄U盤 ，可在電腦上查閱存檔
閉環(huán)反饋控制： 系統(tǒng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)細(xì)胞低氧⼯作站內(nèi)的環(huán)境 ，實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)反饋控制，確保實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)更準(zhǔn)確
氧⽓濃度控制范圍：0. 1-20% ，控制精度為0. 1%
⼆氧化碳濃度控制范圍：0-20% ，控制精度：0.2%
溫度控制范圍： 室溫~45℃ , 控制精度：0. 1℃
內(nèi)置主動(dòng)霧化技術(shù) ，可快速提高并維持低氧細(xì)胞⼯作站內(nèi)的濕度
內(nèi)置可更換的HEPA過(guò)濾 ，持續(xù)凈化低氧⼯作站內(nèi)的空氣，確保實(shí)驗(yàn)細(xì)胞不受污染
內(nèi)置紫外殺菌組件 ，對(duì)添加的水進(jìn)⾏預(yù)殺菌。 保證高濕度情況下培養(yǎng)基不受污染
環(huán)境參數(shù)異常報(bào)警功能
傳感器⾃動(dòng)校準(zhǔn) ，便方客戶對(duì)產(chǎn)品的維護(hù)
提供細(xì)胞培養(yǎng)⽫傳遞小窗口 ，使操作更便捷
低氧⼯作站上部的低氧艙罩和下⾯的基座可分開(kāi) ，⽅⾯維護(hù)以及在內(nèi)部安置第三⽅設(shè)備
細(xì)胞在低氧培養(yǎng)時(shí) ，往往需要 ⼀ 段時(shí)間 ，細(xì)胞培養(yǎng)基中的氧含量才能和低氧艙的氧濃度達(dá)到平衡 ，溶解氧達(dá)到平衡的時(shí)間取決于多⽅
⾯的因素 ，如溫度、壓⼒ 、培養(yǎng)基的成分等。
許多研究者在做細(xì)胞低氧實(shí)驗(yàn)時(shí) ，通常不會(huì)關(guān)注培養(yǎng)基中溶氧的問(wèn)題 ，⽽有⽂獻(xiàn)表明： 把T75細(xì)胞培養(yǎng)瓶從常氧環(huán)境轉(zhuǎn)移到2%的低氧
環(huán)境后 ， 需要約24⼩時(shí)培養(yǎng)基中的氧濃度才達(dá)到2%。 如在常氧環(huán)境中進(jìn)⾏換液操作 ，僅4min后 ，培養(yǎng)基中氧濃度就從0%升⾄8 .5% ，⽽使其恢復(fù)到2%低氧則需約16h。
·型號(hào)選擇
