高精度場發(fā)射掃描電鏡
Phenom Pharos G2 高精度場發(fā)射掃描電鏡是飛納公司推出的第二代高精度臺式場發(fā)射掃描電鏡（FE-SEM），搭載高亮度肖特基熱場發(fā)射電子源，分辨率優(yōu)于1.5 nm，放大倍數(shù)可達(dá) 2,000,000x，支持背散射、二次電子成像及能譜分析（EDS）等多種模式。
適用于對低電壓成像、高分辨率有高要求的應(yīng)用場景：
半導(dǎo)體、材料分析、生物組織、文物樣本等。
?? 核心技術(shù)參數(shù)
| 項目 | 指標(biāo) |
|---|---|
| 加速電壓 | 1kV–20kV（支持低電壓成像） |
| 分辨率 | 優(yōu)于 1.5 nm |
| 放大倍數(shù) | 2,000,000x |
| 抽真空時間 | 約 15 秒 |
| EDS 能譜分析 | 標(biāo)配，支持同步形貌與元素分析 |
| 樣品導(dǎo)航 | 彩色光學(xué)導(dǎo)航，自動馬達(dá)樣品臺 |
| 樣品兼容性 | 無需噴金，可觀察非導(dǎo)電樣品 |
?? 產(chǎn)品優(yōu)勢
納米級分辨率，細(xì)節(jié)精準(zhǔn)呈現(xiàn)
一體式結(jié)構(gòu)設(shè)計，整合成像與能譜功能
免維護電子光路，27組獨立減震，抗震抗磁
遠(yuǎn)程支持服務(wù)，免費遠(yuǎn)程診斷，降低運維成本
30分鐘快速上手，適合教學(xué)、共享平臺及企業(yè)研發(fā)實驗室
?? 應(yīng)用領(lǐng)域廣泛
?? 生命科學(xué) / 生物材料成像
?? 半導(dǎo)體芯片 / MEMS嵌件分析
?? 材料科學(xué)（金屬、陶瓷、高分子）研究
?? 地質(zhì)礦物 / 寶石鑒定
?? 化工原料檢測 / 質(zhì)量控制
?? 文物鑒定 / 刑偵技術(shù)支持
?? 產(chǎn)品定位
Phenom Pharos G2 專為科研機構(gòu)、高校實驗室、企業(yè)研發(fā)中心設(shè)計，滿足高精度成像與元素分析同步進行的實際需求。
飛納使命：讓每個實驗室都擁有一臺高性能場發(fā)射電鏡。
?? 歡迎垂詢或留言獲取產(chǎn)品手冊 / 報價方案
?? 支持上門演示 / 技術(shù)培訓(xùn) / 應(yīng)用支持
