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N-Helix-英國OXFORDCRYOSYSTEM低溫冷卻系統(tǒng)

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地北京市
  • 更新時間2025-02-15
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)北京市
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量84
  • 人氣值776
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北京優(yōu)納珂科技有限公司是瑞士DECTRIS在中國同步輻射和實驗室領(lǐng)域總代理商,負(fù)責(zé)DECTRIS產(chǎn)品在中國的軟硬件售前、售后服務(wù)工作;以及瑞典EXCILLUM公司OEM合作伙伴,負(fù)責(zé)EXCILLUM公司產(chǎn)品在中國的安裝售后服務(wù)工作。同時也是德國STOE公司、英國牛津OxfordCryosystems公司、德國MarXperts公司負(fù)責(zé)在中國的駐華銷售辦事處及售后服務(wù)中心,專業(yè)從事X-射線散射及衍射結(jié)構(gòu)分析類儀器及相關(guān)配件、耗材在國內(nèi)推廣、銷售及研發(fā)與生產(chǎn),我們經(jīng)過不懈努力向客戶提供全集成的,高附加值的解決方案。

我公司目前的主要產(chǎn)品為X-射線散射及衍射專業(yè)領(lǐng)域的所有應(yīng)用產(chǎn)品,主要包括生物大分子、小分子及高壓全套單晶衍射儀(XRD)、粉晶衍射儀(XRD),小角廣角X射線散射儀(SAXS/WAXS)、X射線成像,及配套的高低溫設(shè)備,高壓設(shè)備,拉伸裝置,X-光強度測試儀,各種配套用測角儀和樣品臺,較新性能的探測器等全系列X射線結(jié)構(gòu)分析類產(chǎn)品。
儀器設(shè)備的應(yīng)用覆蓋從基礎(chǔ)研究到工業(yè)質(zhì)量控制的材料性能表征,涉及元素分析,材料研究,結(jié)構(gòu)分析等等, 我們通過提供高精密度,高分辨率的儀器設(shè)備來保證包括化學(xué),化工,冶金、石油,材料,制藥,半導(dǎo)體,生命科學(xué),納米技術(shù)的企業(yè)客戶和學(xué)術(shù)研究單位對單晶及粉晶的結(jié)構(gòu)分析及各類材料的小角廣角散射分析的創(chuàng)新型的科研需要。
- 對新型化合物、 催化劑、 醫(yī)藥, 天然產(chǎn)物,蛋白質(zhì),核酸等需明確表征分子的三維(3D)原子 結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)分析等
- 無機晶相,有機晶相,多功能材料等的物相定性、定量分析,礦物的X射線定性、定量分析等
- 納米結(jié)構(gòu)分析(形狀、尺寸和內(nèi)部結(jié)構(gòu)),分散穩(wěn)定性,顆粒成核現(xiàn)象,孔隙度(比表面),結(jié)晶度和取向,溶液中的生物大分子(Bio-SAXS),納米結(jié)構(gòu)表面 (GISAXS)等。
我公司以誠信、質(zhì)量、效率為追求目標(biāo),以*為依托,本著“客戶至上”的原則,提供專業(yè)的產(chǎn)品、 技術(shù)服務(wù)與支持,滿足客戶日益復(fù)雜化和多樣化的需求。
歡迎來電來函咨詢有關(guān)業(yè)務(wù)。我們將以飽滿熱忱的服務(wù)讓您滿意!





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N-Helix冷卻系統(tǒng)采用低溫氮氣或氦氣作為冷卻介質(zhì),避免液態(tài)低溫介質(zhì)的高成本和維護問題??刂葡到y(tǒng)可以對氮氣和氦氣進行自動切換,取決于實驗所需的溫度范圍。N-Helix冷卻系統(tǒng)可為28-300K溫度之間的低溫實驗需求提供的解決方案,非常適合蛋白晶體或小分子晶體的低溫研究。
N-Helix-英國OXFORDCRYOSYSTEM低溫冷卻系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

產(chǎn)品介紹:


N-Helix冷卻系統(tǒng)采用低溫氮氣或氦氣作為冷卻介質(zhì),避免液態(tài)低溫介質(zhì)的高成本和維護問題??刂葡到y(tǒng)可以對氮氣和氦氣進行自動切換,取決于實驗所需的溫度范圍。N-Helix冷卻系統(tǒng)可為28-300K溫度之間的低溫實驗需求提供的解決方案,非常適合蛋白晶體或小分子晶體的低溫研究。

 

可選用氮氣或氦氣作為冷卻介質(zhì),實驗成本低,維護方便;
控制系統(tǒng)可根據(jù)實驗需求自行切換氦氣和氮氣;
可以進行遠(yuǎn)程監(jiān)視和控制;
氮氣可以用氮氣發(fā)生器從空氣中直接提取,實驗成本更低。

技術(shù)參數(shù)


溫度范圍

氦氣:28-300K  / 氮氣:100-300K

控溫精度

0.3 K

降溫速度

室溫~100K,用時45 min

室溫~30K,用時75 min

冷卻介質(zhì)

低溫氮氣或氦氣

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