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ALD 原子層沉積系統(tǒng)

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2022-10-27
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 所在地區(qū)重慶
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量3
  • 人氣值114
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原子層沉積(ALD)是在3D結構上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法
ALD 原子層沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

原子層沉積(ALD)是在3D結構上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法。薄膜厚度和特性的精確控制通過在工藝循環(huán)過程中在真空腔室分步加入前置物實現(xiàn)。等離子增強原子層沉積(PEALD)是用等離子化的氣態(tài)原子替代水作為氧化物來增強ALD性能的方法。 

 

SENTECH基于多年研發(fā)制造PECVD和ICPECVD的經(jīng)驗,包括專有的PTSA技術,推出臺PEALD設備。新的ALD設備應用SENTECH橢偏儀,使熱輔助和等離子輔助的操作和沉積過程都能得到監(jiān)控。 

 

SENTECH使用激光橢偏儀和寬量程分光橢偏儀的前沿技術——超快在線橢偏儀來監(jiān)控逐層膜生長。 

 

臺PEALD設備已經(jīng)在布倫瑞克科技大學(TU Braunschweig)投入使用,用于生長超高均勻性和密度的氧化膜,如Al2O3和ZnO等。

 

在Al2O3沉積過程中,三甲基鋁(TMA)等離子產(chǎn)生的氧原子反應,襯底溫度為80到200℃。PEALD薄膜厚度均勻性高、折射率變化小的特點。 

 

關鍵詞:橢偏儀
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