1.標配參數(shù)：單槍、 離子源、 晶控、23公分的射頻源、 熱阻蒸、 頂部側部加熱、 兩個擴散泵、一個螺絲泵、一個機械泵
2.用途：此真空鍍膜機是鍍制防污膜（AS膜）及防反射膜+防污膜（AF+AS膜）型光學鍍膜機，應用于鍍膜機等所配的觸摸屏。真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。轉讓二手日本2350光弛鍍膜機
本裝置是為減反射光學薄膜的大批量生產(chǎn)而設計制作的光學鍍膜機。
采用了磁流體密封技術的中心旋轉式基板架，保證了薄膜產(chǎn)品的重復性與均勻性
優(yōu)化的排氣特性和升溫能力使鍍膜時間縮短
可以加裝用于對應高精度AR鍍膜的多層膜用可靠的光控儀 (optional)
產(chǎn)品介紹
Gener-1800
· 反應性等離子源鍍膜機
· SDAR 系列
· 器件
· 離子源
· 光學膜厚監(jiān)控儀
本裝置是為減反射光學薄膜的大批量生產(chǎn)而設計制作的光學鍍膜機。
采用了磁流體密封技術的中心旋轉式基板架，保證了薄膜產(chǎn)品的重復性與均勻性
優(yōu)化的排氣特性和升溫能力使鍍膜時間縮短
可以加裝用于對應高精度AR鍍膜的多層膜用可靠的光控儀 (optional)
規(guī)格
真空室 SUS304,Ф1800mm×2000mm(H)
基板架 4片式工作架（或Ф1200 mm）
基板架轉速 30rpm(可調(diào))
晶振式膜厚計 XTC/3+6點式水晶傳感器
蒸發(fā)源 電子槍1臺
性能
極限真空 7.0 × 10-5 Pa 以下
抽氣速度 10分（大氣壓～3.0×10-3Pa）
基板加熱溫度 350℃
安裝要求
安裝空間 約4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)
電力 3相，200V，50/60Hz，約80KVA
水流量 100升/分以上
壓縮空氣壓力 0.5-0.7MPa
重量 約5000kg
日本光馳OTFC-1300鍍膜機：主要用于量產(chǎn)高精度的帶通濾光片產(chǎn)品，包括生物醫(yī)療、熒光檢測及天文觀測用的濾光片，可以使產(chǎn)品的光學性能及穩(wěn)定性進一步得到保障，滿足生物療領域熒光濾光片對于高對比度、高信噪比、暗黑背景的要求。
OTFC-1300鍍膜機的基本配置是：搭載了10KV雙電子槍，750W的RF射頻離子源，光學膜厚監(jiān)控裝置（Optorun制，HOM2-R-VIS350A），低溫冷凝器（Polycold），油旋轉機械泵 （Edwards E2M275）羅茨機械泵（Edwards EH1200）；多點和環(huán)型坩堝可鍍200層以上，膜厚可達20000nm之多。這就意味著單片鍍膜就可以達到截止深度OD5以上，不用再為了達到高OD值而再做兩片膠合了。從而大大提升了濾光片的成像質(zhì)量以及產(chǎn)品合格率。
下面介紹其中兩個特點：
1.光學膜厚測量控制：
OTFC-1300鍍膜機是利用自動蒸鍍控制系統(tǒng)實現(xiàn)全自動蒸鍍過程，這就使生產(chǎn)效率得以顯著提高。光學膜厚監(jiān)控技術已經(jīng)成為當今光學薄膜成膜自動化的核心技術。可以對薄膜的厚度進行無損的、實時的測量，并在達到所需厚度時能及時給出控制信號。這就意味著鍍膜更精準，公差更小，可以做到±0.1nm。
2. RF射頻離子源：
（1）加工精度高，便于控制。離子束可以通過離子光學系統(tǒng)進行聚焦掃描，可以控制尺寸范圍。高離子電流密度和均勻分布，照射面積能達到Ф1150mm以上。
（2）同使用燈絲型的離子源比較，它的壽命長，污染少。
（3）加工應力、變形極小。離子束加工工藝是一種原子級或分子級的微細加工，作為一種微觀作用，其宏觀壓力很小，適合于各種材料和低剛度工件的加工，而且加工表面質(zhì)量高。
（4） 動作安定性高，能長時間運轉。
3.鍍膜機明細參數(shù)：
真空室SUS304,Ф1300mm×1500mm(H)基板架4片式工作架（或Ф1200 mm）基板架轉速30rpm(可調(diào))晶振式膜厚計XTC/3+6點式水晶傳感器蒸發(fā)源電子槍1臺性能極限真空7.0×10-5Pa以下抽氣速度10分（大氣壓～3.0×10-3Pa）基板加熱溫度350℃安裝要求安裝空間約4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)電力3相，200V，50/60Hz，約80KVA水流量100升/分以上壓縮空氣壓力0.5-0.7MPa重量約5000kg
轉讓二手日本2350光弛鍍膜機
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