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射頻離子源典型應(yīng)用 IBE 離子蝕刻 鍍膜機

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時間2025-04-02
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值5304
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位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會社獨資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識,并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設(shè)備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。另外公司還代理美國Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,HVA 高真空閥門。公司一直堅持品質(zhì)*、信譽*的原則,為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務(wù)。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、ISO9001-2000質(zhì)量體系認證、ISO14001-1996環(huán)境體系認證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開拓進取的精神,為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團化發(fā)展。

為將國外的高科技產(chǎn)品與中國經(jīng)濟和社會的飛速發(fā)展緊密結(jié)合,為促進國內(nèi).貿(mào)易的快速發(fā)展,伯東企業(yè)(上海)有限公司,以高科技推動現(xiàn)代化,以高質(zhì)量服務(wù)全中國, 堅持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業(yè)代理公司,代理上公司的 半導體設(shè)備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承 改革.創(chuàng)新.求真.發(fā)展的基本原則, 精心構(gòu)建誠信、互動、共贏的價值體系, 為所有的客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品, 同時,提供全伯東集團網(wǎng)絡(luò)支持下的較早.Z快的信息與Z及時周到的服務(wù),伯東公司愿意與世界各地的客戶聯(lián)手合作,共建一個誠信.發(fā)展.共同進步的良好環(huán)境.

 

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產(chǎn)地進口 加工定制
上海伯東離子源典型應(yīng)用: 安裝在離子蝕刻機中的 KRI 射頻離子源, 對應(yīng)用于半導體后端的6寸晶圓進行刻蝕
射頻離子源典型應(yīng)用 IBE 離子蝕刻 鍍膜機 產(chǎn)品詳情

價格電議
KRI 射頻離子源典型應(yīng)用 IBE 離子蝕刻
上海伯東美國 KRI 射頻離子源安裝在日本 NS 離子蝕刻機中, 對應(yīng)用于半導體后端的 6寸晶圓進行刻蝕
Hakuto (NS) 離子蝕刻機技術(shù)規(guī)格:

型號

NS 7.5IBE

NS 10IBE

NS 20IBE-C

NS 20IBE-J

適用范圍

適用于科研院所,實驗室研究

適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實驗室研究

適合中等規(guī)模量產(chǎn)使用的離子刻蝕機

適合大規(guī)模量產(chǎn)使用的離子刻蝕機

基片尺寸

Φ4 X 1片或
Φ6 X 1片

φ8 X 1片

φ3 inch X 8片
φ4 inch X 6片
φ8 inch X 1片

Φ4 inch X 12片
φ5 inch X 10片
φ6 inch X 8片

離子源

8cm 或 10cm
考夫曼離子源

10cm NS離子源

20cm 考夫曼離子源

20cm 考夫曼離子源

上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長
RFICP  系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源, 電子供應(yīng)器, 中和器, 電源控制等
RFICP  系列離子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性光透射,均勻性,附著力等

 

若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 歡迎聯(lián)絡(luò)上海伯東葉小姐,分機109
射頻離子源典型應(yīng)用 IBE 離子蝕刻
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關(guān)鍵詞:科研院
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