1、CVD簡介（Chemical Vapor Deposition——化學氣相沉積）
（1）將各種化學反應物質(zhì)：如四氯化鈦（TiCl4）和甲烷（CH4）等含碳氣體（或其它碳氮氣體）蒸氣等通入反應爐體內(nèi)，在高溫（900~1200℃）狀態(tài)下，TiCl4中的鈦（Ti）和碳氫化合物中的碳（C）在模具表面進行化學反應，從而生成一層金屬化合物涂層碳化鈦（TiC）。利用不同的反應物，可得到不同的薄膜，如TiN、Ti（CN）、CrC等等。
（2）CVD的優(yōu)點： ①鍍膜與基材的附著性優(yōu)良； ②復雜的形狀都可以處理：如深孔、內(nèi)管、細縫等。（3）CVD的優(yōu)點： ①鍍膜溫度太高，對基材和反應設備的耐熱性要求很高，很多工件難以承受； ②高溫使基材尺寸變化和變形嚴重，故適于精密度高的工件； ③對于要求工件局部鍍膜，難以實現(xiàn)； ④活潑性氣體源的使用，制程中有爆炸、毒性氣體泄漏等隱患，且對環(huán)境有污染。
2、TD簡介（Thermal Diffusion Coating Process——熱擴散法碳化物覆層處理）
（1）在空氣爐或鹽槽中放入一個耐熱的坩堝，將硼砂放入坩堝加熱熔化至800~1200℃，然后加入相應的碳化物形成粉末（如鈦、鋇、鈮、鉻），再將鋼或硬質(zhì)合金工件放入坩堝中浸漬保溫1~2小時，加入元素將擴散至工件表面并與鋼中的碳發(fā)生反應形成碳化物層（如：VC—碳化釩；CrC—碳化鉻），所得到的碳化物層具有很高的硬度和耐磨性。
（2）TD好主要適合于鉻鋼的工件。
（3）TD的優(yōu)點：①覆層與基材的附著性優(yōu)良； ②覆層的厚度較厚。
3、電鍍硬鉻（Cr）簡介：
（1）用鉻酐、硫酸和添加劑等配制成電鍍液，將工件放入溶液中電鍍金屬鉻沉積在工件表面形成鍍層。
（2）實際上所謂“鍍硬鉻”，其鉻層硬度并不比裝飾鉻層硬度高，只因其鍍層較厚，故能發(fā)揮其硬度高、耐磨的特點，故稱鍍硬鉻。（3）鍍硬鉻的優(yōu)點：①工件大小不受限制；②鍍層厚度較厚，可以適當彌補因加工超差的工件尺寸；③成本較低。
4、滲氮的簡介：
（1）氮化：將待處理的工件放在滲氮爐中，爐內(nèi)加溫500~700℃，充入的含氮氣體在高溫狀態(tài)下分解后產(chǎn)生活性氮原子，被剛才表面吸收滲入其中并且不斷自表面向內(nèi)擴散，形成氮化層，表面硬度可達900~1100HV。
（2）氮化的優(yōu)點：①工件大小不受限制；②氮元素與工件基材結果，故結果牢固；③成本較低。
