1200度實驗室坩堝爐（井式爐），可以分為低溫、中溫、高溫三種加熱形式，加熱元件可分為電阻絲（1200℃以下使用）、硅碳棒（1400℃以下使用）、硅鉬棒（1700℃以下使用）等；箱式坩堝爐大多以上開門形式打開，爐膛（保溫室）正常為圓形，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和PID程序控溫系統(tǒng)，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，能快速升降溫，50分鐘內(nèi)能達到1000度，并具有過溫、斷偶、過流保護等功能該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、質(zhì)量檢測用的理想產(chǎn)品。                                                                    
產(chǎn)品用途：                                                                   
1200度實驗室坩堝爐（井式爐）主要用于高校、科研院所、工礦企業(yè)煅燒真空或惰性氣體中的高純度化合物，退火或擴散半導(dǎo)體晶片，也可以用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料等，主要用于熔化熔點不太高的有色金屬，如銅、鋁及其合金等。