對于磁性方法，標準片的基體金屬的磁性和表面粗糙度，應當與試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。

對于渦流方法，標準片基體金屬的電性質(zhì)，應當與試件基體金屬的電性質(zhì)相似。

基體金屬厚度

檢查基體金屬厚度是否超過臨界厚度，無損檢測資源網(wǎng) 如果沒有，可采用3.3中的某種方法進行校準。

邊緣效應

不應在緊靠試件的突變處，如邊緣、洞和內(nèi)轉(zhuǎn)角等處進行測量。

曲率

橢圓偏光法測量的是非垂直入射光的反射光及光的兩種不同偏振態(tài)。一般而言，反射光譜法比橢圓偏光法更簡單和經(jīng)濟，但它只限于測量較不復雜的結(jié)構(gòu)。 捷揚光電的JFD-2000膜厚測試儀采用的是反射光譜法的原理，可測量薄膜的厚度及光學常數(shù)。反射光譜包含了樣品的反射率，膜層厚度，膜層和基底的折射率與消光系數(shù)的信息。光學參量（n和k）描述了光通過薄膜如何進行傳播。n是折射率，描述了光在材料中能傳播多快，同時它表示入射角i與折射角r的關(guān)系。k是消光系數(shù)，決定材料能吸收多少光。n與k是隨著波長的變化而變化的。這種依賴關(guān)系被稱為色散。不同波長的光波在穿透被測膜層時會產(chǎn)生不同的相位差，由被測膜層的厚度與n，k值決定各個波長的光所產(chǎn)生的相位差，相位差為波長整數(shù)倍時，產(chǎn)生建設性疊加，此時反射率大；相位差為半波長時，出現(xiàn)破壞性疊加，反射率低；整數(shù)倍與半波長之間的疊加，反射率介于大與小反射之間，這樣就形成了干涉圖形。

不應在試件的彎曲表面上測量。

讀數(shù)次數(shù)

通常由于儀器的每次讀數(shù)并不*相同，因此必須在每一測量面積內(nèi)取幾個讀數(shù)。覆蓋層厚度的局部差異，也要求在任一給定的面積內(nèi)進行多次測量，表面粗造時更應如此。

表面清潔度

測量前，應清除表面上的任何附著物質(zhì)，如塵土、油脂及腐蝕產(chǎn)物等，但不要除去任何覆蓋層物質(zhì)。